卧式甩干机SA-SV702-C
为本公司针对(含)6”以下制程之需求,使用自制电机,参照美规设计之全新旋干机,采垂直式放置晶片,并可控制0.3微尘颗粒量20粒,其主要三大功能为清洗,高速脱水,低速烘干。
1、设备用于6英寸硅片甩干工艺。
2、每批最大处理晶圆数量为50,25片/腔体。
3、甩干机为上下双工艺腔体设计,腔室内采用不锈钢。
4、转子的动平衡为片盒中的硅片从0~25片。
5、转速1800-2000转/min。
6、颗粒度增加值<20 (0.3 um) 。
用于4寸~6寸晶片的清洗甩干,能根据客户要求定制。
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